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半導(dǎo)體業(yè)如此巨大的市場(chǎng),半導(dǎo)體工藝設(shè)備為半導(dǎo)體大規(guī)模制造提供制造基礎(chǔ)。摩爾定律,給電子業(yè)描繪的前景,必將是未來(lái)半導(dǎo)體器件的集成化、微型化程度更高,功能更強(qiáng)大。
以下是半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中的主要設(shè)備。
1、單晶爐
設(shè)備名稱(chēng):單晶爐。
設(shè)備功能:熔融半導(dǎo)體材料,拉單晶,為后續(xù)半導(dǎo)體器件制造,提供單晶體的半導(dǎo)體晶坯。
主要企業(yè)(品牌):
國(guó)際:德國(guó)PVA TePla AG公司、日本Ferrotec公司、美國(guó)QUANTUM DESIGN公司、德國(guó)Gero公司、美國(guó)KAYEX公司。
國(guó)內(nèi):北京京運(yùn)通、七星華創(chuàng)、北京京儀世紀(jì)、河北晶龍陽(yáng)光、西安理工晶科、常州華盛天龍、上海漢虹、西安華德、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十八所、上海申和熱磁、上虞晶盛、晉江耐特克、寧夏晶陽(yáng)、常州江南、合肥科晶材料技術(shù)有限公司、沈陽(yáng)科儀公司。
2、氣相外延爐
設(shè)備名稱(chēng):氣相外延爐。
設(shè)備功能:為氣相外延生長(zhǎng)提供特定的工藝環(huán)境,實(shí)現(xiàn)在單晶上,生長(zhǎng)與單晶晶相具有對(duì)應(yīng)關(guān)系的薄層晶體,為單晶沉底實(shí)現(xiàn)功能化做基礎(chǔ)準(zhǔn)備。氣相外延即化學(xué)氣相沉積的一種特殊工藝,其生長(zhǎng)薄層的晶體結(jié)構(gòu)是單晶襯底的延續(xù),而且與襯底的晶向保持對(duì)應(yīng)的關(guān)系。
主要企業(yè)(品牌):
國(guó)際:美國(guó)CVD Equipment公司、美國(guó)GT公司、法國(guó)Soitec公司、法國(guó)AS公司、美國(guó)Proto Flex公司、美國(guó)科特·萊思科(Kurt J.Lesker)公司、美國(guó)Applied Materials公司。
國(guó)內(nèi):中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十八所、青島賽瑞達(dá)、合肥科晶材料技術(shù)有限公司、北京金盛微納、濟(jì)南力冠電子科技有限公司。
3、分子束外延系統(tǒng)(MBE,Molecular Beam Epitaxy System)
設(shè)備名稱(chēng):分子束外延系統(tǒng)。
設(shè)備功能:分子束外延系統(tǒng),提供在沉底表面按特定生長(zhǎng)薄膜的工藝設(shè)備;分子束外延工藝,是一種制備單晶薄膜的技術(shù),它是在適當(dāng)?shù)囊r底與合適的條件下,沿襯底材料晶軸方向逐層生長(zhǎng)薄膜。
主要企業(yè)(品牌):
國(guó)際:法國(guó)Riber公司、美國(guó)Veeco公司、芬蘭DCA Instruments公司、美國(guó)SVTAssociates公司、美國(guó)NBM公司、德國(guó)Omicron公司、德國(guó)MBE-Komponenten公司、英國(guó)Oxford Applied Research(OAR)公司。
國(guó)內(nèi):沈陽(yáng)中科儀器、北京匯德信科技有限公司、紹興匡泰儀器設(shè)備有限公司、沈陽(yáng)科友真空技術(shù)有限公司。
4、氧化爐(VDF)
設(shè)備名稱(chēng):氧化爐。
設(shè)備功能:為半導(dǎo)體材料進(jìn)行氧化處理,提供要求的氧化氛圍,實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體預(yù)期設(shè)計(jì)的氧化處理過(guò)程,是半導(dǎo)體加工過(guò)程的不可缺少的一個(gè)環(huán)節(jié)。
主要企業(yè)(品牌):
國(guó)際:英國(guó)Thermco公司、德國(guó)Centrotherm thermal solutions GmbH Co.KG公司。
國(guó)內(nèi):北京七星華創(chuàng)、青島福潤(rùn)德、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十八所、青島旭光儀表設(shè)備有限公司、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十五所。
5、低壓化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)(LPCVD,Low Pressure Chemical Vapor Deposition System)
設(shè)備名稱(chēng):低壓化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)
設(shè)備功能:把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入LPCVD設(shè)備的反應(yīng)室,在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜。
主要企業(yè)(品牌):
國(guó)際:日本日立國(guó)際電氣公司、
國(guó)內(nèi):上海馳艦半導(dǎo)體科技有限公司、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十八所、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十五所、北京儀器廠、上海機(jī)械廠。
6、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)(PECVD,Plasma Enhanced CVD)
設(shè)備名稱(chēng):等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)
設(shè)備功能:在沉積室利用輝光放電,使其電離后在襯底上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),沉積半導(dǎo)體薄膜材料。
主要企業(yè)(品牌):
國(guó)際:美國(guó)Proto Flex公司、日本Tokki公司、日本島津公司、美國(guó)泛林半導(dǎo)體(Lam Research)公司、荷蘭ASM國(guó)際公司。
國(guó)內(nèi):中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十五所、北京儀器廠、上海機(jī)械廠。
7、磁控濺射臺(tái)(Magnetron Sputter Apparatus)
設(shè)備名稱(chēng):磁控濺射臺(tái)。
設(shè)備功能:通過(guò)二極濺射中一個(gè)平行于靶表面的封閉磁場(chǎng),和靶表面上形成的正交電磁場(chǎng),把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域,實(shí)現(xiàn)高離子密度和高能量的電離,把靶原子或分子高速率濺射沉積在基片上形成薄膜。
主要企業(yè)(品牌):
國(guó)際:美國(guó)PVD公司、美國(guó)Vaportech公司、美國(guó)AMAT公司、荷蘭Hauzer公司、英國(guó)Teer公司、瑞士Platit公司、瑞士Balzers公司、德國(guó)Cemecon公司。
國(guó)內(nèi):北京儀器廠、沈陽(yáng)中科儀器、成都南光實(shí)業(yè)股份有限公司、中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十八所、科睿設(shè)備有限公司、上海機(jī)械廠。
8、化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)(CMP,Chemical Mechanical Planarization)
設(shè)備名稱(chēng):化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)
設(shè)備功能:通過(guò)機(jī)械研磨和化學(xué)液體溶解"腐蝕"的綜合作用,對(duì)被研磨體(半導(dǎo)體)進(jìn)行研磨拋光。
主要企業(yè)(品牌):
國(guó)際:美國(guó)Applied Materials公司、美國(guó)諾發(fā)系統(tǒng)公司、美國(guó)Rtec公司、。
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